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    H94-25C型掩膜对准曝光机

    时间:2016年04月07日    来源:    作者:    阅读:

    \ 负责人:林兆军

    简介:该机是由主机、工作台、电控箱(内有可编程序控制器一台)和附件箱构成。主机由曝光头、显微镜、板架、承片台、Z向运动装置五层导轨和切斯曼机构等组成。附件箱内装有直径分别为50、75、100和150的承片台和与之对应的掩板架。

    采用GCQ350Z型高压直流球形汞灯,照明范围:≤φ120mm,可使用G线、H线、I线的组合。采用进口时间继电器,可从0.1秒~999.9秒控制启动快门,准确曝光。该机为接触式曝光(真空度< -0.05mpa),软接触曝光(真空度-0.02mpa~-0.05mpa),微力接触曝光(真空度>-0.02MPa)。其中,硬接触曝光的最小分辨率可达1μm。对准台采用片动,版不动的方式。X、Y的对准采用切斯曼机构。粗调≥±3mm,细调≤±0.3mm;转角调整细调在±3o,粗调在±15o的范围内;接触分离的间隙在0~50μm任意可调;对准台相对于显微镜可作±15mm的扫描运动;接触分离在20μm情况下,片相对于版的“漂移量”,可调到≤1μm。

    该机对掩版厚度无要求,而外形尺寸和不平整度都应符合国家标准。非标版无法进行真空吸附,只能用压片压紧。

    该机可进行光刻用途。